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Spin-Coater

Wir nutzen diese Spin Coater, um gleichmäßige Schichten aus Fotoresist wie SU-8 für die weiche Lithographie auf Siliziumwafer aufzubringen. Wiederholbare Filmdicken von 50 nm bis 100 µm erfordern eine präzise Kontrolle der Beschleunigungsraten und Enddrehzahlen.

Sie sind essenziell für mikrofluidische Master-Formen, aber denken Sie daran, dass hochviskose Resists beim Schleudern unweigerlich einen Randwulst erzeugen, der die Ausrichtung der Kontaktmaske stört. Wenn Sie Hilfe bei der passenden Vakuum-Ansaugplatte für Ihre Glassubstrate in Sondergrößen benötigen, sagen Sie mir einfach, womit Sie arbeiten.

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    Einlagen für den SPIN150x

    POLOS

    Einlagen für den SPIN150x
    Die POLOS SPIN150x-Einlagen sind wiederverwendbare, antistatische PET-Einlagen, die zum Schutz der Schleudertrommel und des Deckels bei Beschichtungs-, Entwicklungs- und chemischen Verarbeitungsprozessen entwickelt wurden. Allgemeines Die POLOS SPIN150x...
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    POLOS Spin150x_1

    POLOS

    Spin-Coater – POLOS SPIN150x Tischmodell
    Die Modelle POLOS SPIN150x Standard und Advanced sind präzisionsgenaue, reinraumtaugliche Spin-Coater für die reproduzierbare Substratbearbeitung bis zu einer Größe von 150 mm. Sie sind in den Ausführungen NPP oder „ PTFE “ erhältlich und für den Tischbetrieb konzipiert...
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