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Wafer-Heizplatten

Unsere Wafer-Heizplatten bieten den gleichmäßigen Wärmekontakt, den Sie für die Weichlithografie, Aushärtungs PDMS sowie das Ausbacken SU-8 Fotoresist benötigen. Sie profitieren von einer präzisen Temperaturregelung bis zu 400 °C ohne Hotspots, die empfindliche Mikrostrukturen zerstören könnten.

Diese Geräte eignen sich perfekt für die Standardfertigung in Reinräumen, aber bedenken Sie, dass dicke Aluminiumplatten eine hohe thermische Trägheit aufweisen und zwischen den Prozessschritten eine Weile zum Abkühlen benötigen. Wenn Sie Beratung bei der Anpassung eines Heizprofils an Ihre spezifische Resistdicke benötigen, senden Sie mir einfach Ihr Protokoll zu.

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Bild: Wafer-Heizplatten

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    Wafer-Heizplatte – POLOS HOTPLATE 200

    POLOS

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    Wafer-Heizplatte – POLOS HOTPLATE 350 Advanced

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